一种利用Gemini型阳离子化合物改善提高喷墨印花影像性能的方法_专利资讯_印花技术

您的位置：集萃印花网→印花技术→详细内容

【字体:大中小】

一种利用Gemini型阳离子化合物改善提高喷墨印花影像性能的方法

集萃印花网 2011-07-06

【集萃网观察】申请日： 2007年07月23日公开日： 2008年02月06日授权公

　　申请日： 2007年07月23日

　　公开日： 2008年02月06日

　　授权公告日： 2009年06月17日

　　申请人/专利权人：江南大学

　　申请人地址：江苏省无锡市蠡湖大道1800号

　　发明设计人：王潮霞;房宽峻;付少海;吴桂军

　　专利代理机构：无锡市大为专利事务所

　　代理人：殷红梅

　　专利类型：发明专利

　　分类号： D06M13/332;D06B1/00;D06P5/30;D06M101/16;D06M101/10

　　申请号/专利号： 200710024150

　　本发明涉及一种利用Gemini型化合物改善提高喷墨印花影像性能的方法，属于纺织化学技术领域。特征是：首先去除织物纤维表面的残留物质，经碳酸钠与平平加O溶液处理;采用Gemini型阳离子化合物浸渍液浸渍整理或浸轧整理;再经烘干、喷墨印花。采用本发明的Gemini型季铵盐整理工艺，能提高纺织品喷墨印花影像性能，提高清晰度、颜色的深度和鲜艳度，而且牢度优良，织物具有好的手感;除此之外，对纤维的损伤小、无污水排放、节约能源以及生产效率高，值得大力推广。

　　来源：中国印花网

打印返回顶部关闭

集萃网版权与免责声明：
1、凡本网注明“来源：集萃印花网”上传的所有内容：文字、图片和音频视屏等稿件，版权均属于本网站，未经本网授权，任何媒体、网站和个人不得转载或以其他方式使用注有“集萃印花网”的所有信息。若要转载，务必取得本网站的许可(

),并要注明来源。如若违反上诉声明，本网必将追究相关法律责任。
2、本网转载的其他文章，都注明了来源。本网转载是为了传递更多信息，并不代表本网赞同其观点或对其真实性负责。对于要转载此类文章的媒体、网站及个人，必须保留本网注明的“稿件来源”，若有擅自篡改来源，均与本网站无关，其转载者自负法律责任，同时本网也必将依法追究责任。

精彩图集